Inhalt
- Definition - Was bedeutet Nanolithographie?
- Eine Einführung in Microsoft Azure und die Microsoft Cloud | In diesem Handbuch erfahren Sie, worum es beim Cloud-Computing geht und wie Microsoft Azure Sie bei der Migration und Ausführung Ihres Unternehmens aus der Cloud unterstützen kann.
- Techopedia erklärt die Nanolithographie
Definition - Was bedeutet Nanolithographie?
Die Nanolithographie ist ein Zweig der Nanotechnologie und der Name des Verfahrens zum Iming, Schreiben oder Ätzen von Mustern auf mikroskopischer Ebene, um unglaublich kleine Strukturen zu erzeugen. Dieser Prozess wird normalerweise zum Erstellen kleinerer und schnellerer elektronischer Geräte wie Mikro- / Nanochips und Prozessoren verwendet. Die Nanolithographie wird hauptsächlich in verschiedenen Technologiebereichen von der Elektronik bis zur Biomedizin eingesetzt.Eine Einführung in Microsoft Azure und die Microsoft Cloud | In diesem Handbuch erfahren Sie, worum es beim Cloud-Computing geht und wie Microsoft Azure Sie bei der Migration und Ausführung Ihres Unternehmens aus der Cloud unterstützen kann.
Techopedia erklärt die Nanolithographie
Nanolithographie ist ein weit gefasster Begriff zur Beschreibung verschiedener Prozesse zur Erzeugung nanoskaliger Muster auf verschiedenen Medien, von denen das Halbleitermaterial Silizium das häufigste ist. Der vorherrschende Zweck der Nanolithographie ist das Schrumpfen elektronischer Geräte, wodurch mehr elektronische Teile in kleinere Räume gepackt werden können, d. H. Kleinere integrierte Schaltkreise, die zu kleineren Geräten führen, die schneller und billiger herzustellen sind, da weniger Materialien erforderlich sind. Dies erhöht auch die Leistung und die Reaktionszeiten, da die Elektronen nur sehr kurze Strecken zurücklegen müssen.Einige Techniken, die in der Nanolithographie verwendet werden, sind wie folgt:
- Röntgenlithographie - Wird durch einen Näherungsansatz implementiert und stützt sich auf Nahfeld-Röntgenstrahlen bei der Fresnel-Beugung. Es ist bekannt, seine optische Auflösung auf 15 nm zu erweitern.
- Doppelte Strukturierung - Eine Methode, mit der die Teilungsauflösung eines lithografischen Prozesses erhöht wird, indem zusätzliche Muster zwischen Abständen von bereits bearbeiteten Mustern in derselben Schicht eingefügt werden.
- Elektronenstrahl-Direktschreiblithographie (EBDW) - Das in der Lithographie am häufigsten verwendete Verfahren, bei dem ein Elektronenstrahl zur Erzeugung von Mustern verwendet wird.
- Extreme Ultraviolett (EUV) -Lithographie - Eine Form der optischen Lithographie, bei der ultrakurze Lichtwellenlängen von 13,5 nm verwendet werden.